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                  案例詳情

                  光刻膠底膜清洗

                  日期:2022-03-11 20:02
                  瀏覽次數:0
                  摘要:
                  正光刻膠(光阻液)曝光清洗后,會有一部分殘留,微波等離子工藝可以很好的去除這部分殘留物,并不損傷芯片表面。

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